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Femto Science 真空等离子处理系统

CIONE 4 双模真空等离子处理系统

•表面清洁、活化、蚀刻 •等离子涂层
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产品概述

工艺室
•双模式:PE(等离子蚀刻)和 RIE(反应离子蚀刻)模式,双电极
•尺寸:140×200×110(W×D×H,mm)
•单块铝(未焊接,最小化气体泄漏)
•均匀气流设计(专利号 10-1697205)
发电机
•频率 : 20~100kHz (10kHz 增量)
•功率:最大100W(以 1W 为增量可调)
•自动阻抗匹配
•过程监控
气流模块
•最大气体通道数:×3行
•气体流量控制:高重复性 MFC
•吹扫线:×1 ea
•排气管 : × 1 ea
•MFC 流量 : Max.100 sccm (1 sccm 增量)
控制器
•DSP板载信号控制器
•自动/手动操作
•交互式集成软件
•7” 触摸屏 PC 和 USB 数据传输
•保存和加载工艺配方
•过程图和报警日志加载
•射频:13.56MHz,最大。300W 或 600W
•自动阻抗匹配
•过程监控
气流模块
•最大气体通道数:×4行
•气体流量控制:高重复性MFC
•吹扫线:×1 ea
•排气管 : × 1 ea
•MFC 流量 : Max.500 sccm (1 sccm 增量)

技术参数

•工艺模式:PE / RIE
•腔室: W. 140 X D. 200 X H. 110(mm)
•发电机: 20~100kHz Max. 100W
•MFC:高达 100 sccm
•表压 :Atm ~ 5 x 10-4 Torr
•几何尺寸:W.440 x D.500 x H.560 (mm)

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