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Nanonex纳米压印

NX-2600-全晶圆片

多功能整片基板带对准功能 多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统
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产品概述

NX-2600整片基板带对准可多层次纳米压印加高分辨率光刻系统经过了 大量的实时实地验证,质量可靠,性能优越稳定。具备全部压印模式: 热固化、紫外固化和压印。基于独特专利保护的Nanonex气垫软压技术 (ACP),不论模版或基板背面粗糙程度如何,或是模版或基板表面波 浪和弧形结构,NX-2600均可对其校正补偿从而获得无与伦比的压印均 匀性, ACP消除了基板与模版之间侧向偏移,有效地延长了模版使用 寿命。通过微小热容设计可获得快速的热压印周期,最终得到快速的工 艺循环。

所有形式的纳米压印
 热塑化
 紫外固化
 热压与紫外压印同时进行
 热固化
气垫软压技术(ACP)
 Nanonex专利技术
 完美的整片基板纳米压印 均匀性
 高通量
低于10nm分辨率
亚1微米正面对准精度
背面对准可选项
快速工艺循环时间(小于60秒)灵活性
 4″, 6″, or 8″压印面积可选  各种尺寸及不规则形状模
板与基板均可压印
方便用户操作
基于超过12年、15代产品开发 经验的自动化压印操作
Nanonex压印系统经过大量实 时实地验证,质量可靠,性 能优越稳定
全自动纳米压印

技术参数

热塑压印模块
温度范围0~250oC
加热速度>300oC/分钟
制冷速度>150oC/分钟
压力范围0 ~ 3.8 MPa(550 psi)
紫外固化模块
200W窄带紫外光源
365纳米或395纳米波长可选
全自动化控制
对准模块
X, Y, Z, Theta平台
分场光学和CCD相机

基板装载
● 标配纳米压印系统可装载4″基板
● 6″和8″基板可选
● 各种尺寸及不规则形状模板及基
板均可压印
 ●独特专利保护ACP技术可最大限度保护基板和模板,特别对于象 磷化铟(InP)等极易碎模板和 基板给予最大限度保护。
光刻
● 标配5”模板,标配4”直径基板
● 其他尺寸可以提供
● 500瓦紫外水银灯光源

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应用领域

 

纳米电子和光电子、显示器、数据存储介质、先进材料、 生物科技、纳米流道等

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