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等离子剥离/脱胶系统

YES–G1000等离子剥离/脱胶系统

EcoClean是YES的一种小巧,高通量的下游等离子剥离/除渣解决方案,具有高蚀刻速率,并且对表面的损伤很小/可以忽略不计。最小化拥有成本,气体使用量和宝贵的工厂空间。
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产品概述

EcoClean系统为当今和下一代技术创建了先进的解决方案,为工程师提供了晶片的灵活性和可靠性:

•去除光刻胶
•公关目的
•聚酰亚胺去除
•有机物去除
•氧化铜去除

Yield Engineering Systems(YES)已将EcoClean设计为高产量,拥有成本低的单晶圆光刻胶去除系统。 ICP远程源产生原子氧,该氧与晶片表面的光刻胶发生化学反应。 通过采用下游抗蚀剂剥离工艺,可以实现高去除率,而不会造成基板和器件的电损坏或缺陷。 EcoClean提供了自动化的处理方法,气体消耗低,是一种环保的“绿色”解决方案。

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