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Jul. 14,2025
基于NX-2000的四英寸光固化纳米压印光刻技术研究
Nanonex 公司的光固化纳米压印光刻技术（P-NIL）基于NX-2000 纳米压印机，采用专利的气垫压制（ACP）技术，实现了低压室温下 60 秒内的大面积均匀压印；该工艺为双层光刻胶体系，通过紫外光固化完成图案转移，配合两步反应离子刻蚀（RIE）实现图案层间转移，已成功在4 英寸晶圆上制备出 200 纳米间距光栅、20 纳米孔径结构及 MESFET 电路栅极层级等从纳米到数十微米的特征尺寸结构，展现了低成本、高通量及高分辨率的优势。
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