产品概述

无掩模光刻可以随意进行纳米图案化，而不需要缓慢且昂贵的光掩模。这种便利对于研究和快速原型制作特别有用。 POLOS® Beam 在不影响性能的情况下将其带到桌面上，从而补充了现有的优势。

当配备405 nm引擎和20倍物镜时，光束引擎能够在4″ 晶圆上产生小于 (CD) 0.8 um 的特征。

小型

全功能无掩模光刻机，比台式电脑还小。

高效

亚微米分辨率，同时在不到两秒的时间内曝光写入区域。

超快自动对焦

压电致动器与我们的闭合环形对焦光学元件相结合，可在

不到一秒的时间内完成对焦

轻松实现多层对齐

半自动对齐可在几分钟内完成多层对齐。

应用范围扩展至微机电系统 (MEM)、生物医学设备和微电子器件的设计和制造，例如以下领域：

医疗（包括微流体）
半导体
微电子
生物技术和生命科学
先进材料研究
市场趋势与机遇

技术参数

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应用领域

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