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无掩模光刻机
SS6-CA全自动光刻机
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产品概述
POLOS® Beam 这是一种用于绘制最小线宽达 0.8微米结构的高性价比解决方案。这款无掩模光刻设备能够在5英寸晶圆(载物台支持6英寸)上实现纳米图案化，无需使用耗时且昂贵的光掩模。POLOSBeam 是一款桌面型工具，特别适用于研究和快速原型制作，且性能毫不妥协。
核心优势
•紧凑小巧:功能齐全的无掩模光刻设备，体积比台式电脑还小。
•性能强大:具备亚微米分辨率，曝光一个写入场的时间不到两秒。
•超快自动对焦:结合闭环对焦光学系统，压电致动器可在不到一秒的时间内完成对焦。
•多层加工便捷:半自动对准功能使多层对准可在几分钟内完成。
•配套软件让任何图案加工任务都能快速完成:只需加载、对准和曝光即可。
•写入分辨率低至 0.8μm
技术参数
最小线宽：0.8 μm
重复精度：<100 nm (静态)
对准分辨率：0.1 μm
扫描速度：Up to 200 mm/s
最大基板尺寸：5 x 5" (125 mm x 125 mm)
运动区域：Max.155 x155 mm
外形尺寸(mm)：370 (w)x 340 (h) x 360 mm(d)
重量(kg)：30
产品视频
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