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工艺室
•等离子模式:PE(等离子蚀刻)和 RIE(反应离子蚀刻)模式
•尺寸:330×350×340(宽×深×高,mm)
•腔室结构:单/双/多电极/扩展腔室/粉末处理
•均匀气流设计(专利号 10-1697205)
电极
•液冷设计
•顶部陶瓷绝缘口袋
•射频噪声屏蔽罩
发电机
•低频:20~100kHz,最大。300W
•射频:13.56MHz,最大。300W 或 600W
•自动阻抗匹配
•过程监控
气流模块
•最大气体通道数:×4行
•气体流量控制:高重复性MFC
•吹扫线:×1 ea
•排气管 : × 1 ea
•MFC 流量 : Max.500 sccm (1 sccm 增量)
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